A Reuters értesülései szerint Kína jelentős technológiai áttörést ért el a félvezetőiparban, miután egy sencseni kutatólaborban sikeresen megépítette első saját EUV litográfiai gépének prototípusát. A fejlesztés különösen érzékeny körülmények között zajlott, mivel a projektben több korábbi ASML-mérnök is részt vett, akik állítólag álnevek alatt dolgoztak, teljes titoktartás mellett. Az EUV, vagyis extrém ultraibolya litográfia kulcsszerepet játszik a legmodernebb chipek gyártásában, és eddig gyakorlatilag kizárólag a holland ASML volt képes ilyen gépeket szállítani. Kína eddig csak a korlátozottabb képességű DUV technológiához juthatott hozzá, exportkorlátozások miatt EUV-berendezéseket nem vásárolhatott. A mostani fejlesztés ezért stratégiai jelentőségű, hiszen hosszú távon lehetővé teheti, hogy a kínai gyártók felzárkózzanak a TSMC, az Intel vagy a Samsung technológiai szintjéhez.
Fontos ugyanakkor, hogy a jelenlegi EUV gép még nem alkalmas chipek tényleges gyártására. A szakértők szerint a rendszer legkorábban 2028-ra, de akár csak 2030 körül válhat teljesen működőképessé. Mire ez megtörténik, a globális élvonal várhatóan már a következő generációs, úgynevezett high-NA EUV technológiát használja majd, amelyen jelenleg szintén az ASML dolgozik.
A kihívásokat tovább növeli, hogy Kínának gyakorlatilag mindent saját erőből kell megoldania. Hivatalos ASML-támogatás hiányában az alkatrészek jelentős részét házon belül kell legyártani, vagy más gyártóktól, például a Nikontól és a Canontól kell használt komponenseket beszerezni. Ez nemcsak technológiai, hanem logisztikai és minőségi kockázatokat is hordoz. Mindeközben az SMIC eddig is a DUV technológia határait feszegette. Az N+3 gyártástechnológiával már 5 nanométeres osztályba sorolható chipeket, például a Kirin 9030-at is előállították, sőt szabadalmakban még a 2 nanométeres szint lehetősége is felmerült. Az EUV megjelenésével azonban ezek az extrém kompromisszumokra épülő megoldások vélhetően háttérbe szorulnak, mivel túl alacsony kihozatallal és túl nagy komplexitással járnának.
A kínai EUV-prototípus tehát önmagában még nem jelenti a globális erőviszonyok azonnali átrendeződését, de egyértelmű jelzés arra, hogy Kína hosszú távon sem mondott le a csúcstechnológiás chipgyártásról, még a legszigorúbb korlátozások közepette sem.
